과학 기술의 발달로 도광판의 제조 방법이 점차 개선되어 초기 인쇄 유형과 달리 "비 인쇄 유형"이라고합니다.
포토리소그래피
리소그래피 기술은 평평한 실리콘 웨이퍼에 내식성 포토 레지스트 층을 코팅 한 다음 강한 빛을 포토 레지스트를 통과시키고 생성 된 특정 층의 패턴 정보에 따라 포토 레지스트에 선택적으로 노광하는 것입니다. 실리콘 웨이퍼는 미세 패턴 구조의 필름이 남습니다. 포토리소그래피 방식으로 제조된 도광판의 표면 거칠기가 불량하고 광에너지 손실이 상대적으로 크다.
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